Intel Makes Chipmaking History with High-NA EUV Panther Lake Production
6 hours ago
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- 英特尔已成功实现Panther Lake芯片使用高数值孔径极紫外光刻技术的双认证。
- 高数值孔径极紫外光刻采用0.55的数值孔径，可在单次曝光中印刷出比标准极紫外光刻小60%的特征尺寸。
- 这消除了多重图案化技术的需求，从而减少了制造时间、缺陷和成本。
- 在使用阿斯麦价值4亿美元的Twinscan EXE高数值孔径设备加工的晶圆上，良率已与英特尔成熟平台持平。
- 这一里程碑证明高数值孔径技术具备商业可行性，尽管行业存在质疑，但标志着阿斯麦取得重大胜利。